전체 글34 반도체 회사 분석_KLA(feat.대중 반도체 수출 규제) KLA회사에 대하여 KLA는 반도체 생산 공정을 관리하는 장비를 생산하는 회사이다. 우선 반도체 생산 공정은 삼성을 기준으로 크게 8가지로 나눠 8대 공정이라고 불린다(1.웨이퍼 2.산화공정 3.포토공정 4.식각공정 5.박막공정 6.금속배선 7. EDS 8.패키징 ). 그렇다면 공정관리 장비란 무엇일까. 공정관리 장비란 이 각 공정 단계에서 회로가 제대로 생성이 됐는지 혹은 층과층 사이의 정렬은 제대로 됐는지, 선폭은 어느정도인지 등 각 공정 중간중간에 검사하고 측정하는 장비이다. 점차 EUV 기술의 발전과 힘입어 반도체 직접도 상승하고 있으며 이에 따라 나노단위 공정에서는 반도체 검사,계측 장비의 필요성이 점차 커지고 있다. KLA회사 규모 KLA는 전 세계에 약 1만 1,000명 이상의 임직원을 보유.. 2022. 11. 1. 물리전자_#케패시터, 제너다이오드 pn junction은 케페시터로 모델링 할 수 있다. n과 p가 마치 케페시터의 도체처럼 -,+를 띄고 공핍영역은 부도체 부분이 된다 이러면 rc delay같이 회로의 성능을 저하시킨다. 캐패시턴스의 값을 줄이기 위해서는 A인 junction을 줄이거나 , W(공핍영역)을 줄여야 한다 제너다이오드 일반 다이오드는 순방향 전압을 인가하면 전류가 흐르고 역방향 전압을 인가하면 전류가 흐르지 않는다 그러나 일정 이상의 역전압을 가하게 되면 갑자기 전류가 흐른다 이를 이용한게 제너다이오드이다 제너다이오드는 제너항복전압을 낮게 만든것으로 역전압이 인가됐을때 전류가 흐른다 그리고 역전압이 굉장히 커져도 전류는 거의 일정하게 흐른다 일반적으로 다이오드는 순방향일때만(p에 +전압 , n에 -전압인가) 전류가 흐르는줄.. 2021. 2. 15. 물리전자_#11.PN공핍영역 폭의 변화(순방향,역방향) 1.내부전위(전압인가 x) N형과 P형을 붙이고 전압을 인가하지 않으면 페르미준위는 같으므로 다음과 같은 그래프가 나온다 이때는 드리프트와 확산이 힘의 평형을 유지 하므로 전류가 흐르지 않는다 2.순방향전압 인가 전압을 인가하면 별개의 페르미 준위 레벨을 가지게 된다 n형에 -을 인가하고 p형에 +를 인가했으므로 에너지 차이는 줄어든다 그러면 내부전압도 줄어들고 드리프트에 비해 확산의 힘이 커져서 전류가 흐르게 된다 3.역방향전압 인가 역시 전압을 인가하면 별개의 페르미 준위를 가지게 된다 역방향의 경우 n형에 + , p형에는 -를 인가하면 에너지 차이는 커진다 그러면 내부전압 차이가 커지고 더욱 전자가 이동하기가 어려워진다 전압이 인가되지 않았을때 위치에 따른 전자볼트 , 전압, 전하량 ,전기장의 그래.. 2021. 2. 10. 물리전자_#10.PN접합(다이오드,공핍영역,내부전압) 이전까지는 P와N이 접합한 상태가 아닌 별개로 존재할때를 보았다. -페르미레벨이란 전자가 발견될 확률이 1/2인 지점 -상태밀도와 페르미함수를 이용해 전자와 정공의 농도를 구할 수 있음 -열평형상태에서는 n*p=ni^2로 일정함, 전하 중성조건을 만족함 -전류는 전기장에 의한 드리프트전류와 농도차이에 의한 확산전류로 나뉜다 -외부에너지가 가해지면 캐리어의 생성이 생성되고 에너지가 끊기면 재결합이 일어난다 -외부에너지가 가해져 n*p>ni^2인 경우에 유사페르미 개념을 도입해 계산을 한다 ... 이제 P와N형 반도체가 결합했을때 어떻게 되는지 보자 N형과 P형을 붙이게 되면 다음과 같은 일들이 순서대로 일어난다 1.N형에는 전자가 , P형에는 정공이 주캐리어로 존재함으로 농도차에 의한 '확산'이 일어난다 .. 2021. 2. 9. 이전 1 ··· 3 4 5 6 7 8 9 다음
